某半导体芯片制造厂中小型企业因晶圆洗工步造成含氨废渣，蓄水量200吨/天。废渣中除高锰酸盐指数外还包含有氟化物和微量分析巨资属，治理高难度大。本县进行相关排放标准规定符合要求高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污水化学成分及源 晶圆清晰废气（具体源于）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀多种工序工业废水：含进样器铜、镍等高价属，pH值振幅大 CMP抛光电镀废水：含硅科粒及化学需氧量 鑫霖环保设计环节 用于"耐腐蚀沉淀出的+膜脱离+折点氯化"组成工序： 预补救 ：添加CaCl2除氟，调控pH在7.5-8. 反渗透装置体统 ：清理0.01μm及以上颗粒肥料物 超滤到沉淀 ：将挥发酚精提至1000mg/L及以上 折点氯化 ：正确把控氯污泥脱水量，将氧化还原电位有效的转化为N2 阴阳离子变换 ：维护巨资属未达标 进而结果 氟化物安稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属成分少于查重限 水工业废水处理率达75% 废水形成量减小40%