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电子半导体废水处理案例|电子半导体废水处理方法

西南某LED本质片加工的企业,因加工方式中适用砷化镓、磷化操作铟等III-V族氧化物,废水里含砷(As)、镉(Cd)、铅(Pb)等高价属,来设计操作面积1200吨/日。 工业废水成份及起源 MOCVD装置清晰生活污水 :含前三基镉、前三基铟等有机物合金材料有机物 裁切打磨电镀废水 :含納米级金属制顆粒 化学镀焦化废水 :含铜、镍等重金属化合物 操作工艺技术的流程 技术创新用于"腐蚀破络+高价属收集+膜剥离"结合生产工艺: 预净化处理模快 :加药系统亚硫酸氢钠工业制硝酸可挥发金属质络合物 本质办理单元测试卷 : 的使用DTCR血本属气体吸附剂养成不可溶螯合物 反渗透装置程序(UF)挤占分子结构污染源物 反渗入(RO)脱盐率>98% 污泥外理外理单位 :离心法脱水除理后代为垃圾除理学校处理 最后效果好 经3、方检查: 总砷成分:0.05mg/L(国家标准0.5mg/L) 镉含量的:0.01mg/L(标准0.1mg/L) 水工业废水处理率:75% 启用代价:3.8元/吨水

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